Διαδικασία παραγωγής φιλμ γυαλιού

1. Διαδικασία βαφής
Μέσω της διαδικασίας σύνθεσης επίστρωσης, η κόλλα που αναμιγνύεται με βαφή επικαλύπτεται σε PET ή ανάμεσα σε δύο στρώσεις μεμβρανών PET και το υπόστρωμα PET χρωματίζεται για να δείχνει διαφορετικά χρώματα ανάλογα με τις ανάγκες. Τα πλεονεκτήματα είναι διάφορα χρώματα, απλή διαδικασία και χαμηλό κόστος. τα μειονεκτήματα είναι ότι δεν είναι ανθεκτικό στην υπεριώδη ακτινοβολία, ξεθωριάζει εύκολα και έχει μικρή διάρκεια ζωής.
2. Τεχνολογία ψεκασμού κενού
Επίστρωση εξάτμισης υπό κενό Με την εφαρμογή μιας διαδικασίας θερμικής εξάτμισης (για καθαρά μέταλλα με χαμηλή θερμοκρασία τήξης), η μεμβράνη μπορεί να επικαλυφθεί με διάφορα μέταλλα, κράματα ή επικαλύψεις οξειδίων. Η διαδικασία ψεκασμού κενού συνήθως χρησιμοποιεί επίστρωση καθαρού αλουμινίου και μπορεί να κατασκευαστεί σε φιλμ με διαφορετική διαπερατότητα ορατού φωτός και ανακλαστικότητα, έτσι ώστε το φιλμ να έχει την καλύτερη απόδοση ελέγχου του ηλιακού φωτός.
3. Τεχνολογία sputtering Magnetron
Η μέθοδος επίστρωσης με sputtering magnetron είναι μια προηγμένη διαδικασία που αναπτύχθηκε στα τέλη της δεκαετίας του 1970. Χρησιμοποιεί ειδικό εξοπλισμό κενού για να χτυπήσει διάφορους μεταλλικούς ή μεταλλικούς σύνθετους στόχους με φορτισμένα ιόντα υπό τη δράση ηλεκτρικής ενέργειας. Κατασκευάζονται πολλαπλές στρώσεις πυκνών, χαμηλής ανακλαστικής, υψηλής θερμομόνωσης στρώσεων μεταλλικής μεμβράνης, οι οποίες επικαλύπτονται στην επιφάνεια του υποστρώματος με τάξη και ομοιόμορφο τρόπο. Η σύνθετη διαδικασία χρησιμοποιείται για τη δημιουργία μιας ποικιλίας μοναδικών, σταθερών χρωμάτων και υψηλού επιπέδου επιλεκτικότητας μετάδοσης. , διασφαλίζοντας ότι το προϊόν έχει επαρκή σκληρότητα, είναι αντιεκρηκτικό, θερμομονωτικό, ανθεκτικό στην υπεριώδη ακτινοβολία 99% και έχει μεγάλη διάρκεια ζωής. Σε σύγκριση με την παραδοσιακή διαδικασία ψεκασμού υπό κενό, η διαδικασία ψεκασμού με μαγνητρόν έχει πολλά πλεονεκτήματα, όπως ισχυρότερη πρόσφυση μεταξύ της επικάλυψης και του υποστρώματος. Μπορεί εύκολα να παράγει λεπτές μεμβράνες ουσιών με υψηλό σημείο τήξης. μπορεί να παραχθεί σε συνεχή υποστρώματα μεγάλης επιφάνειας. Αποκτήστε μια πιο ομοιόμορφη μεμβράνη. είναι εύκολο να ελεγχθεί η σύνθεση της επικάλυψης και μπορούν να παραχθούν διάφορες επικαλύψεις κραμάτων με διαφορετικές συνθέσεις και αναλογίες.
Η αρχή της διαδικασίας διασκορπισμού μαγνητρονίου είναι η αποστολή του υποστρώματος σε θάλαμο κενού εξοπλισμένου με κάθοδο μαγνητρόν και αέριο εκτόξευσης (αργό). Εφαρμόζεται αρνητική τάση στην κάθοδο και εμφανίζεται μια εκκένωση λάμψης στον θάλαμο κενού για τη δημιουργία πλάσματος. Δεδομένου ότι ο μεταλλικός στόχος έχει αρνητικά φορτισμένο, θετικά φορτισμένα ιόντα αερίων στο πλάσμα επιταχύνονται και χτυπούν την επιφάνεια στόχο με ενέργεια ισοδύναμη με την πτώση U της θέσης του πόλου στόχου, ανατινάζοντας τα άτομα του μεταλλικού στόχου και κατακρημνίζοντας τα στην επιφάνεια του το υπόστρωμα για να σχηματιστεί μια μεταλλική μεμβράνη.
4. Πολυστρωματική σύνθετη διαδικασία
Η μεμβράνη γυαλιού παραθύρου είναι ένα πολυστρωματικό λειτουργικό πολυεστερικό σύνθετο φιλμ. Λεπτές στρώσεις με διαφορετικές λειτουργίες συνδυάζονται μεταξύ τους μέσω κόλλων, έτσι ώστε να έχει τις λειτουργίες αντιεκρηκτικής, θερμομόνωσης και ασφάλειας.
Μόνο ένα σύστημα επίστρωσης υψηλής ακρίβειας μπορεί να διασφαλίσει ότι οι διάφορες παράμετροι διεργασίας ελέγχονται αποτελεσματικά κατά τη διαδικασία κατασκευής της μεμβράνης γυάλινων παραθύρων.